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一种硅片保持环研磨液及其制备方法.pdfVIP

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  • 2023-05-12 发布于四川
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一种硅片保持环研磨液及其制备方法.pdf

    本发明涉及一种硅片保持环研磨液及其制备方法，以质量百分含量计，所述硅片保持环研磨液由以下原料组成：去离子水34‑80wt％，氧化铝2.3‑10wt％，分散剂1.5‑5wt％，硅溶胶16‑50wt％，杀菌剂0.2‑1wt％；所述原料的总质量百分含量为100％；采用pH调节剂将所述硅片保持环研磨液的pH值调节至3.9‑4.1。本发明通过控制磨料氧化铝与硅溶胶的配比与粒度，制得的硅片保持环研磨液可以有效改善硅片保持环的平整度与表面光泽度，同时避免硅片保持环研磨液在长期放置时产生板结现象，研磨液分散性较

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116082961 A (43)申请公布日 2023.05.09 (21)申请号 202211532466.7 (22)申请日 2022.12.01 (71)申请人 宁波平恒电子材料有限公司 地址

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