一种清洗机构及硅片去污机.pdfVIP

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  • 2023-05-12 发布于四川
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本发明涉及硅片去污机相关技术领域,具体为一种清洗机构,清洗机构包括清洗槽、龙门支架、液压组件、安装板、一级夹持机构、二级夹持机构,清洗槽固定在地面上,且清洗槽的后侧面设置有进液口和排液口,进液口和排液口的端口位置处均设置有阀门结构,龙门支架的横梁位于清洗槽的开口正上方;本发明通过设置由清洗槽、龙门支架、液压组件、安装板、一级夹持机构和二级夹持机构组合构成的清洗机构,从而通过一级夹持机构和二级夹持机构交替对硅片进行夹持定位,从而避免了单组夹具对硅片进行夹持时,会造成夹具的夹持位置无法实现清理的问题

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116093009 A (43)申请公布日 2023.05.09 (21)申请号 202211622295.7 (22)申请日 2022.12.16 (71)申请人 苏州赛森电子科技有限公司 地址

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