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本发明涉及基于投影式移动掩膜光刻工艺的微棱镜阵列制备方法，该方法包括步骤：清洗基片表面并烘干；在清洗好的基片上涂覆光刻胶，并进行烘干；对涂覆有光刻胶的基片进行无掩膜曝光；在掩膜板与基片之间添加投影系统；对完成预曝光的基片进行掩膜移动曝光；对曝光完毕的基片做显影及定影处理；以光刻胶图形为掩蔽层，采用干法刻蚀设备将光刻胶图形传递到基片上；去除底胶获得所需的微棱镜阵列结构。本发明利用外加投影系统提高晶圆表面曝光量的均匀性和可控性，在掩膜板与晶圆之间添加投影系统，提高光束的平行度，同时可以固定掩膜板与晶
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116088079 A
(43)申请公布日 2023.05.09
(21)申请号 202211477842.7
(22)申请日 2022.11.23
(71)申请人 苏州景照光电技术有限公司
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