一种氧化硅的选择性蚀刻液.pdfVIP

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2023-05-12 发布于四川
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一种氧化硅的选择性蚀刻液.pdf

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本发明提供了一种氧化硅的选择性蚀刻液，该蚀刻液包括氢氟酸、氟化铵、抑制剂、添加剂以及超纯水。其对氧化硅膜层和金属膜层具有选择性蚀刻，通过抑制剂和添加剂的羰基、氨基和羟基基团的协同作用，在金属表面形成稳定的保护膜，选择性地蚀刻氧化硅，蚀刻选择比达到15以上，且金属层蚀刻后的表面粗糙度在4nm以下；同时本发明的蚀刻液可以快速润湿至深孔结构中，完全蚀刻深孔结构周围的氧化硅层。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 115181569 A (43)申请公布日 2022.10.14 (21)申请号 202210794775.5 (22)申请日 2022.07.07 (71)申请人湖北兴福电子材料有限公司地址 4