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本发明的目的是提供一种被覆硅酮构件的制造方法，即使在更低的温度下对相对于水的表面接触角超过110°那样的高拨水性的硅酮构件进行处理的情况下，在硅酮构件表面也形成有相对于包含盐及蛋白质的水溶液显示出充分低的表面接触角的被膜，本发明提供一种被覆硅酮构件的制造方法，包括：(A)分解反应工序，对硅酮构件的表面进行分解；(B)接触工序b，使表面被分解的硅酮构件与含有聚碳二酰亚胺的溶液b接触；以及(C)接触工序c，使表面被分解的硅酮构件与含有聚合物C的溶液c接触，所述聚合物C具有烷基酰胺基及羟基。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116097153 A
(43)申请公布日 2023.05.09
(21)申请号 202180062443.1 (74)专利代理机构 北京同立钧成知识产权代理
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