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本发明属于单晶硅片加工设备技术领域，且公开了一种单晶硅片的液体抛光装置，包括抛光箱，所述抛光箱的背面固定连接有侧板，所述侧板的顶面固定安装有一号伸缩杆，所述一号伸缩杆的顶面固定安装有顶部板。本发明通过在横板的顶面增设抽吸泵，并在连接杆的内侧面增设二号伸缩杆，使得二号伸缩杆带动吸附板，并利用曲管和控制阀，使得通过调节控制阀实现两组吸附板同时吸气以及便捷切换两组吸附板单独吸气，从而在完成底面抛光后，通过调节控制阀并配合二号伸缩杆实现两组吸附板的滑动调节，从而使得单晶硅片的顶面再次切换后有效进行抛光，
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114603464 A
(43)申请公布日 2022.06.10
(21)申请号 202210267592.8 B24B 55/04 (2006.01)
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