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本发明公开一种光罩检验系统，其可包含用于产生两组或更多组检验图像来特性化光罩的两个或更多个检验工具，其中所述两个或更多个检验工具包含提供所述光罩的检验图像的至少一个光罩检验工具。所述光罩检验系统可进一步包含控制器，其用于使来自所述两组或更多组检验图像的数据与所述光罩上的位置相关、使用所述相关数据作为多输入缺陷检测模型的输入来检测所述光罩上的一或多个关注缺陷及输出与所述关注缺陷相关联的缺陷数据。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114641726 A
(43)申请公布日 2022.06.17
(21)申请号 202080077249.6 (74)专利代理机构 北京律盟知识产权代理有限
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