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2023-05-13 发布于四川
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基板处理方法.pdf

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本公开涉及一种基板处理方法，抑制微粒的产生并且对腔室内迅速地进行预涂。基板处理方法包括：工序(a)，在配置于腔室内的腔室内部件形成预涂膜；以及工序(b)，在工序(a)之后，对1个以上的基板进行处理。工序(a)包括：工序(a1)，不使用等离子体地在所述腔室内部件形成第一膜，或使用在能够抑制所述腔室内部件的溅射的条件下生成的第一等离子体来在所述腔室内部件形成第一膜；以及工序(a2)，使用第二等离子体在所述第一膜的表面形成第二膜。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114649182 A (43)申请公布日 2022.06.21 (21)申请号 202111529791.3 (22)申请日 2021.12.14 (30)优先权数据 2020-211353 202