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光电子集成基板及其制作方法、光电子集成电路.pdfVIP

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  • 2023-05-13 发布于四川
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光电子集成基板及其制作方法、光电子集成电路.pdf

    本申请提供一种光电子集成基板及其制作方法、光电子集成电路，本光电子集成基板包括基底、电子元件和光学传感器，光学传感器包括依次层叠设置的第一反射层、吸收层和第二反射层，第一反射层在基底上的正投影与第二反射层在基底上的正投影交叠，第一反射层和第二反射层用于形成谐振腔，吸收层位于谐振腔内。通过在光学传感器中设置第一反射层和第二反射层，第一反射层和第二反射层构成的谐振腔可以使入射到光学传感器中特定波长范围内的光线持续反射震荡，由此可以使吸收层充分地吸收特定波长范围内的光，提高了光学传感器的光吸收效率和光

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114649321 A (43)申请公布日 2022.06.21 (21)申请号 202210259164.0 (22)申请日 2022.03.14 (71)申请人 京东方科技集团股份有限公司 地址

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