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实例的研磨颗粒等调节所述研磨颗粒中所包含的氧化铈颗粒的颗粒尺寸和粒度分布,从而适用于化学机械研磨(ChemicalMechanicalPolishing,CMP)工序时具有高研磨速率特性的同时可抑制研磨过程中可能产生的划痕的形成。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114650966 A
(43)申请公布日 2022.06.21
(21)申请号 202080078082.5 (74)专利代理机构 北京同立钧成知识产权代理
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