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本发明涉及GaN材料损伤检测技术领域。本发明涉及一种ICP刻蚀对GaN材料表面损伤检测装置。其包括固定装置和设置于固定装置上的测试装置,固定装置包括底座,测试装置包括检测机构,检测机构包括检测件。本发明在对GaN半导体材料刻蚀位置进行检测时,采用注入液体的方式对刻蚀位置进行检测,根据注入液体的量判断GaN半导体材料刻蚀位置是否存在损伤,在注满检测液时,通过检测液的压力使压力环向上移动,进而带动流通环向下移动,避免检测液再经过流通槽流动至GaN半导体材料刻蚀位置,导致GaN半导体材料刻蚀位置受到的
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 115808508 A
(43)申请公布日 2023.03.17
(21)申请号 202310049844.4
(22)申请日 2023.02.01
(71)申请人 武汉鑫威源电子科技有限公司
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