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本发明公开了一种庆大霉素基聚物改性阴离子交换膜的制备方法，其包括如下步骤：步骤1：将商业阴离子交换膜依次在氢氧化钠水溶液、氯化钠水溶液中浸泡，接着水洗制备得到原膜；步骤2：在室温下，将多巴胺溶解于pH在8‑9之间的Tris缓冲液中，经多巴胺自聚合得到PDA溶液，将原膜的单面与PDA溶液接触，充分接触后将膜取出用去离子水充分冲洗得到M‑PDA膜；步骤3：制备庆大霉素基聚物；步骤4：将由上述步骤2制备的M‑PDA膜浸入高碘酸钠水溶液中，接触15‑45min后将膜取出水洗后，转移到含有庆大霉素基聚合物
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114733356 A
(43)申请公布日 2022.07.12
(21)申请号 202210330512.9 B01J 41/13 (2017.01)
(22)申请日 2022.03.
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