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直写曝光机及双面曝光方法.pdfVIP

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  • 2023-05-15 发布于四川
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直写曝光机及双面曝光方法.pdf

    本发明提供了一种直写曝光机及双面曝光方法，直写曝光机包括多个打标装置、承载机台、设于承载机台上方的曝光装置和位置获取装置、以及遮光条，承载机台的上表面包括承载面以及位于承载面外且相邻的两个边缘，相邻两个边缘分别开设有第一凹槽和第二凹槽，遮光条包括嵌装于第一凹槽的第一段和嵌装于第二凹槽的第二段，遮光条开设有与多个打标装置一一对应的多个透光孔，其中部分透光孔设于第一段并沿第一方向间隔排布，其余透光孔设于第二段并沿垂直于第一方向的第二方向间隔排布，多个打标装置设于遮光条的下方，且每个打标装置的出光口至

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114721227 A (43)申请公布日 2022.07.08 (21)申请号 202110006710.5 (22)申请日 2021.01.05 (71)申请人 苏州微影激光技术有限公司 地址 2

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