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本发明是一种可减少前驱物沉积的原子层沉积设备，包括腔体、承载装置、遮蔽件、至少一进气口及至少一抽气口，其中承载装置与遮蔽件位于腔体的容置空间内。遮蔽件用以遮挡腔体的部分内表面，而进气口则流体连接腔体的容置空间。在原子层沉积制程中，气体可由进气口通入腔体的内表面与遮蔽件之间，以避免前驱物进入腔体与遮蔽件之间的空间。抽气口可抽离未与基材反应的前驱物，藉此可减少前驱物残留在腔体的内表面，并降低腔体的清洁周期及提升产品良率。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112663027 A
(43)申请公布日 2021.04.16
(21)申请号 202011386650.6
(22)申请日 2020.12.02
(71)申请人 鑫天虹(厦门)科技有限公司
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