基板处理装置、半导体装置的制造方法及程序.pdfVIP

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2023-05-16 发布于四川
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基板处理装置、半导体装置的制造方法及程序.pdf

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本发明提高形成于基板的膜的面间面内均匀性。具备：基板保持件，其排列并保持基板；以及反应管，其在内部收纳基板保持件，基板保持件具有：多个柱，其在所排列的基板的周围在与基板大致垂直的方向上分别延伸；顶板，其将多个柱的各自的一端相互固定，且在中心具有开口；以及底板，其将多个柱的各自的另一端相互固定，反应管具有以与开口的形状对应的形状朝内侧突出的前端平坦的突出部，突出部设置为在将基板保持件收纳于反应管的状态下插入于开口，且比顶板更接近于配置在基板保持件的最靠近顶板处的基板。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114762092 A (43)申请公布日 2022.07.15 (21)申请号 202080082498.4 (51)Int.Cl.