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本发明属于抛光技术领域,具体公开了无机石英石镜面抛光工艺,包括以下步骤:a.在无机石英石表面施加抛光剂,所述抛光剂包括重量百分比的各组分:硅溶胶10~15%、甲基硅树脂1~5%、乙二醇3~7%、水溶性硅油1~3%和余量水,用抛光机抛光1~2h,得到抛光后的无机石英石;b.在抛光后的无机石英石表面均匀施加硅基材料,继续用抛光机抛光0.5~1h,得到镜面抛光的无机石英石。在抛光后的无机石英石表面施加5~10nm的SiO2,继续抛光使得SiO2填充进抛光后的无机石英石表面的毛细孔中,从而使无机石英石表
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114770346 A
(43)申请公布日 2022.07.22
(21)申请号 202210467431.3 C09G 1/02 (2006.01)
(22)申请日 2022.04.2
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