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提供在高温烧成时也显示异常高的疏水性、良好的平坦化性，可以通过变更分子骨架来调整为适应于工艺的光学常数、蚀刻速度的纳米压印用抗蚀剂下层膜形成用组合物。一种纳米压印用抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含具有下述式(1)所示的重复单元结构的酚醛清漆树脂，[在式(1)中，基A表示具有芳香族环、稠合芳香族环、或稠合芳香族杂环的有机基，基B表示具有芳香族环或稠合芳香族环的有机基，基E表示单键、或者可以被取代且可以包含醚键和/或羰基的支链或直链的碳原子数1～10的亚烷基，基D表示式(2)所示的碳原子数1～15的
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114830298 A
(43)申请公布日 2022.07.29
(21)申请号 202080088420.3 (74)专利代理机构 北京市中咨律师事务所
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