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一种表面处理设备.pdfVIP

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  • 2023-05-17 发布于四川
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一种表面处理设备.pdf

    本申请公开了一种表面处理设备，涉及表面处理技术领域。表面处理设备包括真空室、工件架和电子源发生机构；所述真空室包括第一腔体，所述工件架包括基座和多个挂杆，所述基座转动安装于所述第一腔体中，所述多个挂杆转动安装于所述基座的周向，每一所述挂杆的转动轴线均平行于所述真空室的轴向，所述多个挂杆的转动轴线布设于同一圆弧上；所述电子源发生机构设置于所述真空室中且位于所述工件架的周向，所述电子源发生机构用于在所述第一腔体中生成电子束区；所述电子束区与所述圆弧相切，或所述电子束区穿过所述圆弧。本申请提供的表面处

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114807837 A (43)申请公布日 2022.07.29 (21)申请号 202210236217.7 (22)申请日 2022.03.11 (71)申请人 松山湖材料实验室 地址 52380

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