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界面处空位型缺陷结构的优化方法.pdfVIP

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  • 2023-05-17 发布于四川
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界面处空位型缺陷结构的优化方法.pdf

    本发明公开了一种界面处空位型缺陷结构的优化方法，主要步骤包括：获取最小空位形成能的晶格位置和影响区域，删除可能受空位占据影响区域中的原子；对删除原子后的影响区域划分网格；在划分的网格中插入原子；优化插入原子在网格上的占据位置；弛豫优化后的占据位置，获得空位基态原子结构。该优化方法该优化方法不限制原子晶格位置，能够在一定空间区域整个空间所有的位置处寻找空位结构，可有效访问界面附近的势能面特征，获得空位的基态结构。

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114818266 A (43)申请公布日 2022.07.29 (21)申请号 202210289840.9 (22)申请日 2022.03.23 (71)申请人 中国科学院合肥物质科学研究院 地址

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