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本发明公开了一种基于双像解析的岩体结构面产状测量方法，包括：布设控制点，从左右两个角度各拍摄一张围岩的影像；估算两幅影像拍摄时的内方位元素和外方位元素；进行误差分析，判断影像解析精度是否满足要求；在左幅影像中沿每条结构面迹线布设多个锚点；搜寻锚点在对应右幅影像中的位置；利用共线方程求解锚点三维坐标；确定结构面所在平面方程；根据平面方程解译出结构面的倾向和倾角。本发明可用于测量结构面暴露面积非常小，仅呈迹线出露而无法直接使用地质罗盘测量的情况，且不会受到磁场干扰，具有测量安全、准确、快速的优点。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114858095 A
(43)申请公布日 2022.08.05
(21)申请号 202210454103.X
(22)申请日 2022.04.27
(71)申请人 北京科技大学
地址 100083
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