原创力文档- 5
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- 2023-05-18 发布于四川
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本发明实施例公开了一种纹影测量系统和纹影测量方法，纹影测量系统包括纹影光源结构和纹影成像结构，以及纹影平行光反射结构；纹影光源结构用于提供发射光；纹影平行光反射结构至少包括沿发射光路方向顺次设置的半反半透镜、主反射镜、第一平面反射镜和光源折返机构；纹影成像结构位于半反半透镜反射的接收光路的输出端上；主反射镜与第一平面反射镜之间的光路与实验区域内的流场方向相平行，第一平面反射镜与光源折返机构之间的光路与实验区域内的流场方向相垂直。实现了降低了对实验场地横向空间的要求，并且灵敏度提高一倍，可以获取更
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116124415 A
(43)申请公布日 2023.05.16
(21)申请号 202310040657.X
(22)申请日 2023.01.12
(71)申请人 中国科学院力学研究所
地址 10
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