保持镀膜腔真空度稳定的方法、装置以及可读存储介质.pdfVIP

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2023-05-18 发布于北京
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保持镀膜腔真空度稳定的方法、装置以及可读存储介质.pdf

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本发明公开了一种保持镀膜腔真空度稳定的方法，应用于真空镀膜生产线，其包括：位于所述镀膜腔室前侧的所述基材往所述镀膜腔室移动的过程中、所述第一真空门阀打开之前，往所述前过渡腔室充入与所述镀膜腔室类型相同的工艺气体，并控制所述前过渡腔室的真空度，使得所述基材到达所述前过渡腔室的后端时或到达所述前过渡腔室的后端之前，所述前过渡腔室的真空度相对于所述镀膜腔室的真空度在预定偏差范围之内；类似的，所述第二真空门阀打开之前，参照上述过程进行。本发明还公开了可以实现上述方法的装置以及可读存储介质。通过上述的方法

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114836728 A (43)申请公布日 2022.08.02 (21)申请号 202210457199.5 (22)申请日 2022.04.27 (71)申请人中山凯旋真空科技股份有限公司地址