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本发明公开了一种利用氧等离子照射去钝化钙钛矿表面缺陷的方法,包括如下步骤:步骤一、清洗ITO导电玻璃;步骤二、旋涂PEDOT:PSS;步骤三、旋涂钙钛矿溶液;步骤四、氧等离子体处理;步骤五、退火;步骤六、观察表面形貌;步骤七、先后旋涂PCBM和BCP溶液;步骤八、镀银。本发明的实验过程操作简单,即通过氧等离子体对钙钛矿薄膜进行照射处理,氧气在经过起辉处理可以将氧气分子解离成氧离子状态,这些解离的氧原子可以嵌入到钙钛矿原子的晶格中去钝化钙钛矿薄膜的原有缺陷,从而制备出高致密、高结晶度、大颗粒的钙钛
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114883501 A
(43)申请公布日 2022.08.09
(21)申请号 202210298066.8
(22)申请日 2022.03.24
(71)申请人 南通大学
地址 226000 江
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