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本发明为具有增强的高频性能的金属氧化物半导体场效应晶体管及其制造方法。一种具有增强的高频性能的横向扩散金属氧化物半导体(LDMOS)器件,包括具有第一导电类型的半导体衬底、在衬底上形成的具有第二导电类型的掺杂漂移区、在掺杂漂移区内形成的具有第一导电类型的体区域。具有第二导电类型的源极区域和漏极区域分别形成为靠近该体区域和掺杂漂移区的上表面,并相互横向隔开。第一绝缘层形成于该体区域和掺杂漂移区上。包含多个栅极段的栅极区域形成于该第一绝缘层上。每个栅极段通过布置在相邻栅极段之间的第二层绝缘层彼此横向
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114899226 A
(43)申请公布日 2022.08.12
(21)申请号 202210403499.5 H01L 21/28 (2006.01)
(22)申请日 2022.04.
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