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本发明提供一种形状转印膜，其为含有凹凸形状的形状转印膜，能够通过向转印对象物转印来源于上述凹凸形状的形状来赋予转印对象物充分的遮盖性，且在有意将其从转印对象物剥下时能够轻松地将其剥下。形状转印膜1在至少一面含有界面展开面积比Sdr为1500～7000％和／或中心部的水平差Sk为2.0～7.0μm的凹凸形状，且用于向转印对象物转印来源于上述凹凸形状的形状。形状转印膜1例如包括基板层2和设于基板层2的一面的树脂层3。且形状转印膜1例如含有填料4，上述凹凸形状通过填料4比膜平坦面3a更向外侧突出而形成
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114902819 A
(43)申请公布日 2022.08.12
(21)申请号 202180007796.1 (74)专利代理机构 北京市安伦律师事务所
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