具有自保持低摩擦垫的PVD靶.pdfVIP

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2023-05-20 发布于北京
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本文提供了用于在基板处理腔室中使用的靶组件的实施方式。在一些实施方式中，靶组件包括板，所述板包括第一侧，所述第一侧具有中心部分及支撑部分；靶，所述靶设置在所述中心部分上；多个凹槽，所述多个凹槽形成在所述支撑部分中；以及多个自保持低摩擦垫，所述多个自保持低摩擦垫部分地设置在所述多个凹槽中，其中所述多个低摩擦垫中的每个低摩擦垫包括实心主体部分及自保持杆，所述自保持杆从所述实心主体部分的底部向外延伸，其中所述自保持杆包括设置在所述第一通孔部分中的第一杆部分及设置在所述第二通孔部分中的第二杆部分。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114929929 A (43)申请公布日 2022.08.19 (21)申请号 202180008691.8 (74)专利代理机构北京律诚同业知识产权代理