一种对铜无损伤的氧化铜蚀刻液及其制备方法.pdfVIP

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2023-05-23 发布于四川
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一种对铜无损伤的氧化铜蚀刻液及其制备方法.pdf

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本发明涉及蚀刻液技术领域，公开一种对铜无损伤的氧化铜蚀刻液，包括按质量百分比计的以下组分：4％‑10％双氧水；1％‑5％磷酸铵；0.1％‑1％苯并三氮唑；0.1％‑1.0％磷酸氢二钾；0.1％‑1.0％磷酸二氢钾；0.25％‑5％甘氨酸；0.1％‑5％TMAH；余量为纯水。本发明的氧化铜蚀刻液既可以有效的去除氧化铜，又对铜无损伤，蚀刻速度均匀。本发明通过在配方中添加了由磷酸氢二甲和磷酸二氢钾组合成pH缓冲液，可以有效维持氧化铜蚀刻液pH的稳定。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116121757 A (43)申请公布日 2023.05.16 (21)申请号 202211435558.3 (22)申请日 2022.11.16 (71)申请人苏州博洋化学股份有限公司地址