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一种改善晶圆显影中光刻胶漂胶的方法.pdfVIP

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  • 2023-05-23 发布于四川
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一种改善晶圆显影中光刻胶漂胶的方法.pdf

    本发明提供一种改善晶圆显影中光刻胶漂胶的方法，包括下列步骤：(1)将晶圆置于HMDS气氛的烘箱中，在晶圆表面形成厚度为5～30纳米的HMDS粘膜用作为光刻胶增粘剂；(2)在晶圆表面已形成的所述HMDS粘膜上面旋涂光刻胶薄膜，然后烘干固化；(3)用步进扫描式I线光刻机对光刻胶薄膜进行曝光；(4)对晶圆表面旋转水洗、将显影液旋转式布满光刻薄膜表面且予以浸泡、旋转甩去显影液、再次旋转水洗；重复执行步骤(1)和(4)。

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116136651 A (43)申请公布日 2023.05.19 (21)申请号 202111368347.8 G03F 7/20 (2006.01) (22)申请日 2021.11.1

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