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本发明涉及一种砷化镓太阳电池芯片及其制备方法,该电池芯片包括:Ge衬底;于Ge衬底上外延生长外延层,外延层由下至上为底电池、GaAs缓冲层、中底隧穿结、第一DBR层、中电池、中顶隧穿结、顶电池、第二DBR层、欧姆接触层;外延层上面依次为减反射膜、上电极;Ge衬底下面为下电极;上电极包括栅线和主电极;除栅线和主电极正下方的欧姆接触层和第二DBR层保留着外,其余减反射膜下方的欧姆接触层和第二DBR层被腐蚀掉。本发明通过在顶电池和欧姆接触层之间引入DBR结构,将外延层反射的部分太阳光再反射回去给中电池
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 115863466 A
(43)申请公布日 2023.03.28
(21)申请号 202310186432.5
(22)申请日 2023.03.02
(71)申请人 南昌凯迅光电股份有
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