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本发明涉及电镀铜技术领域,尤其为一种用于高纵横比电路板通孔电镀的电镀液及其电镀方法,包括电镀液,电镀液包含0.1~100g/L二价锰和0.1~10g/L六价锰,1~100g/L二价锰和0.5~10g/L六价锰,15~100g/L的铜、50~350g/L的硫酸和5~200mg/L的氯化物,0.2~10ppm添加剂A和0.01~0.3%添加剂B,通过加入的二价锰和六价锰可构成准可逆氧化还原体系,该氧化还原体系中六价锰要优先于二价铜的还原,相比于现有技术中的二价铁/三价铁体系,避免了因浓差极化所导致的
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112210801 A
(43)申请公布日
2021.01.12
(21)申请号 20191
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