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本申请公开了一种垂直腔面发射激光器，包括电流限制层、p面电极、n面电极、由下至上依次层叠的衬底、第一掺杂层、第一反射层、有源层、第二掺杂层、第二反射层，所述电流限制层中的电流孔与所述n面电极的距离小于所述电流孔与所述p面电极的距离。本申请的垂直腔面发射激光器中，电流孔与n面电极的距离小于电流孔与p面电极的距离，即电流孔偏向n面电极，电流由p面电极流入，增大了横向电流路径，有效减小垂直腔面发射激光器的电流拥堵效应，使电流更加均匀的进入有源区层。此外，本申请还提供一种具有上述优点的垂直腔面发射激光器
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112186503 A
(43)申请公布日 2021.01.05
(21)申请号 202011131416.9
(22)申请日 2020.10.21
(71)申请人 中国科学院长春光学精密机械与物
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