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本发明涉及用于处理基板的装置和方法。一种基板处理装置包括：腔室，在腔室中具有处理空间；基板支承单元，其在处理空间中支承基板；气体供应单元，其将气体供应到处理空间中；和等离子体生成单元，其包括RF电源，RF电源施加RF功率，其中，等离子体生成单元使用RF功率从气体生成等离子体。基板支承单元包括支承板，支承板支承基板；和加热单元，加热单元控制基板的温度。加热单元包括加热构件；加热器电源，其向加热构件施加功率；和滤波器单元，其防止加热构件与RF电源的耦合。滤波器单元包括：滤波器，其干扰从RF电源供应的
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112185792 A
(43)申请公布日
2021.01.05
(21)申请号 20201
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