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本发明公开了一种MOSFET晶体管，MOSFET晶体管包括：衬底；缓冲层；漂移区；掺杂基区；帽层；多个沟槽；多个沟槽自帽层一侧向衬底一侧延伸，并延伸至漂移区内；多个重掺杂区，重掺杂区位于漂移区内且位于沟槽的底部，第一金属层，第一金属层覆盖部分台面、沟槽的部分底部以及和部分底部相连的侧壁；栅介质层以及栅极；第一电极和第二电极；MOSFET晶体管中具有第一原胞区和第二原胞区。由此，通过设置沟槽、第一原胞区和第二原胞区，实现了重掺杂区对沟槽栅的电场屏蔽，实现了掺杂基区与第二电极的电连接，同时也反并联了
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112201690 A
(43)申请公布日 2021.01.08
(21)申请号 202011016736.X
(22)申请日 2020.09.24
(71)申请人 芜湖
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