基板处理装置.pdfVIP

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  • 2023-05-24 发布于四川
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本发明的基板处理装置一边抑制残留处理液进入器件区域一边处理上表面周缘部,具有:基板保持部,将基板保持为大致水平,围绕规定旋转轴旋转,旋转机构,使基板保持部围绕旋转轴旋转,处理液喷出部,以使液流接触以旋转轴为中心旋转的基板的上表面周缘部的旋转轨迹中的一部分的着落位置的方式喷出处理液的液流,气体喷出部,从上方朝向旋转轨迹中的着落位置的基板的旋转方向的上游侧的第一位置喷出非活性气体的第一气流,使第一气流从第一位置朝向基板的周缘,从上方朝向旋转轨迹中的第一位置的基板的旋转方向的上游侧的第二位置喷出非活性

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 110571177 A (43)申请公布日 2019.12.13 (21)申请号 20191

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