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一种低锆抛磨块.pdfVIP

一种低锆抛磨块.pdf

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    本发明涉及磨块技术领域，尤其为一种低锆抛磨块，包括以下重量组分：高岭土20~30，长石10~20，石英砂40~50，硅微粉10~20，滑石3~5；本发明通过在生产过程中，严格控制原料中的杂质含量，使得整体的杂质得到减少，提高了整体的品质，相对于现有的磨块相比，整体的使用效果更加优秀；通过在高温的窑内进行长时间的烧结，使得磨块的密度得到相应的提高，使得整体的密度得到提升，进而增强了整体的强度，耐磨性能更加优越，延长整体的使用寿命。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112225544 A (43)申请公布日 2021.01.15 (21)申请号 202011020350.6 (22)申请日 2020.09.25 (71)申请人 湖州星星研磨有限公司

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