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本发明提供的是一种借助于均匀光栅掩膜板制备啁啾光纤布拉格光栅的新方法，适用于纤芯存在较大范围横向折射率变化的光纤的啁啾光纤布拉格光栅制备。其特征是将准分子激光器、反射镜、扩束镜、柱透镜、掩模板和单应力元光纤依次按序放入刻写光路中，并使纤芯和掩模板平行，且垂直于掩模板栅线，即可使用刻写均匀光纤布拉格光栅的流程，得到啁啾光纤布拉格光栅。本发明使用不同的纤芯折射率存在较大范围的横向变化的光纤，即可只利用同一块相位掩模板制备出具有不同光谱特征的啁啾光纤布拉格光栅。本发明可用于啁啾光纤布拉格光栅的制备，可
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112255722 A
(43)申请公布日 2021.01.22
(21)申请号 202010937615.2
(22)申请日 2020.09.07
(71)申请人 桂林电子科技大学
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