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本发明专利公开了一种用于发光二极管生产的外延片清洗装置,包括壳体,所述壳体内壁的左右两侧均开设有通槽。本发明专利通过壳体、通槽、传送带、第一滤网、存水箱、通水口、第二滤网、水泵、出水管、固定管、喷头、进水管、第一阀门、输水管和第二阀门相互配合,将外延片放置在传动带上,并通过外接真空吸盘等方式对外延片进行限位,通过喷头对外延片进行清洗,清洗完成后,传动带将外延片传送出壳体的内部,相对于人工清洗来说,不但省时省力,而且提高了清洗效率,通过设置第一滤网和第二滤网,起到了对清洗后的水进行过滤的作用,通过
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112242314 A
(43)申请公布日
2021.01.19
(21)申请号 20191
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