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本申请公开了一种纳米结构、其制备方法及显示面板,制备方法包括以下步骤:提供一基底;在基底上形成金属层;在金属层上形成压印胶;提供一压印模板;将压印模板和所述基底对应,在压印胶上形成凸部和凹部相间的预设图形;移除凹部的压印胶,暴露出部分金属层;对凸部的压印胶进行表面硬化处理;蚀刻暴露出的金属层;移除剩余的压印胶。该方法提高了压印模的抗蚀刻能力,以防止在蚀刻金属层时造成压印胶的损伤,提高纳米结构的制作精度和性能。该方法易于实施,适于量产。由该方法制备的纳米结构的凸起,凸起的高度的相对偏差小于10%。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112241105 A
(43)申请公布日 2021.01.19
(21)申请号 202011096639.6
(22)申请日 2020.10.14
(71)申请人 TCL华星光电技术有限公司
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