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- 2023-05-25 发布于四川
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本申请提供一种结构黑体和黑体装置，结构黑体包括层叠设置的支撑层和发射层，发射层的远离支撑层的一侧表面具有吸收结构，支撑层的材料与发射层的材料不同。本申请采用支撑层和发射层层叠的结构，在黑体具有发射层的一侧设置吸收结构，实现在各种材料上制备高发射率的黑体。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116147783 A
(43)申请公布日 2023.05.23
(21)申请号 202310433291.2
(22)申请日 2023.04.21
(71)申请人 清华大学
地址 100084
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