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本发明提供一种热处理装置和热处理方法。对形成有抗蚀剂的覆膜且该覆膜被实施了曝光处理的基片进行热处理的热处理装置即热处理单元(U8)包括：能够支承并加热基片的加热板(21)；覆盖加热板(21)上的处理空间(S)的腔室(41)；在腔室(41)内，从上方朝向加热板上的基片释放处理用气体的气体释放部(50)；在腔室(41)内，从比基片的表面靠下方的位置向腔室内供给气体的气体供给部即气体流路(81)；和排气机构(70)，其经由设置在处理空间(S)的上方且具有朝向下方的开口的排气孔(71)，对腔室内进行排气
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112289701 A
(43)申请公布日 2021.01.29
(21)申请号 202010667579.2
(22)申请日 2020.07.13
(30)优先权数据
2019-1344
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