一种低密度高纯铼粒制备工艺.pdfVIP

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  • 2023-05-26 发布于四川
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本发明公开了一种低密度高纯铼粒制备工艺,该工艺包括以下步骤:步骤a:高纯度的高铼酸铵的制备;步骤b:高纯度的高铼酸铵的研磨;步骤c:筛分后的高铼酸铵的压制成型;步骤d:圆柱状高铼酸铵粉坯的氢气还原、真空烧结;步骤e:金属铼粒的包装。本发明提供一种低密度高纯铼粒制备工艺,通过该制备工艺,设计有多个温度节点,将传统的两次高温还原、两次高温烧结四步工序压缩为一个工序,即将还原、烧结工序在一台设备内在高真空条件下即可完成,掺杂环节减少、加工周期短,相对于传统的常压高温烧结工艺(大于2400℃)而言,真空

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 115971505 A (43)申请公布日 2023.04.18 (21)申请号 202211683381.9 (22)申请日 2022.12.27 (71)申请人 铜陵铜冠优创特种材料有限公司 地址

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