- 1、本文档共10页,其中可免费阅读9页,需付费10金币后方可阅读剩余内容。
- 2、本文档内容版权归属内容提供方,所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议,可选择认领,认领后既往收益都归您。
- 3、本文档由用户上传,本站不保证质量和数量令人满意,可能有诸多瑕疵,付费之前,请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形,可联系本站下载客服投诉处理。
- 4、文档侵权举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
- 5、该文档为VIP文档,如果想要下载,成为VIP会员后,下载免费。
- 6、成为VIP后,下载本文档将扣除1次下载权益。下载后,不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 7、成为VIP后,您将拥有八大权益,权益包括:VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 8、VIP文档为合作方或网友上传,每下载1次, 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等,对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
本发明公开一种基于三层胶的金属剥离方法,包括以下步骤:选择基片并清洗;在基片顶面旋涂第一光刻胶层;根据金属版图图形,在第一光刻胶层上进行图形曝光、显影;旋涂LOR胶层;在LOR胶层顶面旋涂第二光刻胶层;根据金属版图图形,在第二光刻胶层上进行图形曝光、显影;同时显影去除相对应的LOR胶层区域,使基片顶面的图形区域暴露;第二光刻胶层的图形内切小于第一光刻胶层的图形内切;溅射金属Pt,在基片顶面的图形区域得到金属图形;采用超声浸泡和剥离工艺,对剩余的第一光刻胶层、LOR胶层与第二光刻胶层同时剥离;该方
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112271133 A
(43)申请公布日 2021.01.26
(21)申请号 202011026789.X
(22)申请日 2020.09.25
(71)申请人 华东光电集成器件研究所
文档评论(0)