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本发明公开了一种低温下获得的晶态立方三氧化二铝铬稳定结构涂层及其制备方法,属于涂层技术领域,该涂层使用高能脉冲磁控溅射沉积获得,涂层包括一种fcc‑(Al,Cr)2O3相(200)晶面;该涂层的制备方法为:基体前处理和加热;使用等离子清洗基体;用高能脉冲磁控溅射沉积晶态立方三氧化二铝铬稳定结构涂层。本发明涂层制备温度低,硬度高,择优取向强,化学结构稳定。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112281115 B
(45)授权公告日 2023.04.07
(21)申请号 202011193963.X (56)对比文件
(22)申请日 2020.10.30
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