原创力文档- 1、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。。
- 2、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
- 3、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
- 4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
- 5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次， 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
本发明提供对被控制为高温的静电吸盘进行稳定的基片的吸附和解吸的基片处理装置和基片处理方法。基片处理装置包括：吸附基片的静电吸盘，其具有电介质和上述电介质内部的用于吸附基片的吸附电极；用于加热上述基片的加热电极；吸附用电源，其用于对上述吸附电极施加用于吸附上述基片的吸附电压；以及加热用电源，其用于对上述加热电极施加用于加热上述基片的加热电压，上述吸附用电源基于上述加热电压的大小来控制对上述吸附电极施加的上述吸附电压的大小。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116153749 A
(43)申请公布日 2023.05.23
(21)申请号 202211397183.6
(22)申请日 2022.11.09
(30)优先权数据
2021-188695 202
文档评论（0）