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本发明涉及一种MOCVD设备混气顶盘组件及反应装置，包括：顶盘、匀气网和匀气水冷盘；所述匀气网设置在顶盘与匀气水冷盘之间；所述顶盘与匀气网之间构成混合空腔，所述顶盘顶部设置有与混合空腔连通的第一进气管路和第二进气管路；所述匀气网下表面与匀气水冷盘上表面直接接触；所述匀气水冷盘的上表面布满多条平行排列的水道，所述水道首尾相连构成水冷槽，所述水冷槽外周及水道间隙布满匀气孔。本发明在匀气水冷盘中针对水冷槽进行了大圆弧度设计，使经过水冷盘后的工艺气体能够冷却，降低工艺气体之间预反应，增加MOCVD设备外
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112281142 A
(43)申请公布日 2021.01.29
(21)申请号 202011339339.6
(22)申请日 2020.11.25
(71)申请人 山西中科潞安紫外光电科技有限公
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