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摆动设备、处理基板的方法、用于从传递腔室接收基板的摆动模块和真空处理系统.pdfVIP

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  • 2023-05-26 发布于四川
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摆动设备、处理基板的方法、用于从传递腔室接收基板的摆动模块和真空处理系统.pdf

    描述了一种用于使基板相对于具有纵轴的一或多个沉积源移动的摆动设备。所述摆动设备包括：支撑主体，所述支撑主体用于保持所述基板；旋转机构，所述旋转机构耦接至所述支撑主体以使基板围绕旋转轴移动一角度，以将基板取向从传递或水平取向改变为处理区域处的处理或竖直取向；以及线性运动机构，所述线性运动机构耦接至所述支撑主体，以在所述基板处于处理取向时使所述基板相对于所述沉积源的纵轴平移。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112313784 A (43)申请公布日 2021.02.02 (21)申请号 201880094749.3 (51)Int.Cl.

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