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2023-05-27 发布于四川
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基片处理装置和基片干燥方法.pdf

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本发明提供基片处理装置和基片干燥方法。本发明的基片处理装置能够进行使用超临界状态的处理流体使在图案形成面形成有液膜的基片干燥的干燥处理，该基片处理装置包括处理容器、保持部和供给部。处理容器收纳基片。保持部在处理容器内保持基片。供给部对处理容器内供给处理流体。而且，保持部包括基座部、多个支承部件和升降机构。基座部配置在基片的下方。多个支承部件设置在基座部上，并能够从下方支承基片。升降机构使多个支承部件升降。本发明能够在使用超临界状态的处理流体使基片干燥的技术中，抑制形成于基片的上表面的图案的倒塌。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112331608 A (43)申请公布日 2021.02.05 (21)申请号 202010744130.1 (22)申请日 2020.07.29 (30)优先权数据 2019-1438

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