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2023-05-27 发布于四川
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本公开涉及底部抗反射涂料。一种根据本公开的方法包括：提供衬底；在衬底上方沉积底层；在底层上方沉积光致抗蚀剂层；根据图案将光致抗蚀剂层的一部分和底层的一部分曝光于辐射源；烘烤光致抗蚀剂层和底层；以及对光致抗蚀剂层的曝光部分进行显影以将图案转移到光致抗蚀剂层。该底层包括：聚合物主链；极性可切换基团；键合到聚合物主链的可交联基团；以及光酸产生剂。极性可切换基团包括：键合到聚合物主链第一端基、包括氟的第二端基、以及键合在第一端基和第二端基之间的酸不稳定基团。该曝光分解光酸产生剂以生成酸性部分，该酸性部分

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112327577 A (43)申请公布日 2021.02.05 (21)申请号 202010771846.0 G03F 7/038 (2006.01)

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