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本发明涉及集成电路制造技术领域，尤其涉及一种光刻胶模型的建立方法及电子设备，S1、提供掩模设计版图及电镜扫描图像，掩模设计版图包括至少一掩模图像，电镜扫描图像包括至少一扫描图案，将至少一扫描图案与至少一掩模图像对准以获得至少一对准扫描图案；S2、识别所述至少一对准扫描图案的外边界或者内边界；S3、至少提取至少一对准扫描图案的外边界或者内边界的位置信息以形成数据集；及S4、基于数据集建立光刻胶模型。提取外边界或者内边界的位置信息以形成数据集，其数据是较容易获得以及数量是相对较多的，使得形成的数据集
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112364508 A
(43)申请公布日 2021.02.12
(21)申请号 202011255892.1
(22)申请日 2020.11.11
(71)申请人 东方
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