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本发明提供载置台和等离子体处理装置，其使配置于载置台内的收容空间的基板的动作的稳定性提高。载置台包括：基台，其在内部具有收容空间；电介质层，其设于所述基台的第1面，具有载置基板的载置面，该电介质层在内部具有多个加热器；以及加热器控制基板，其配置于所述收容空间内，用于驱动所述多个加热器，所述基台在与所述第1面相反的面即所述基台的第2面具有向所述收容空间内导入制冷剂的导入口。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112420583 A
(43)申请公布日 2021.02.26
(21)申请号 202010818424.4
(22)申请日 2020.08.14
(30)优先权数据
2019-1521
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